硅碳復合材料高速分散機，硅碳復合材料分散機，多孔納米硅碳復合材料分散機，是從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經過高頻的循環往復，z終得到穩定的高品質產品。

利用可聚合性單體和交聯劑作為硅的研磨介質，對納米硅表面進行疏水化處理，然后加入炭黑及添加劑，通過高速剪切分散將納米硅研磨液分散在聚烯醇的水溶液中形成O/W型乳液，通過微懸浮聚合，得到硅/高分子復合微球，把納米硅固定在高分子微球內部，然后進行離心分離、干燥、高溫熱處理，得到鋰離子電池用硅碳復合負極材料

硅碳復合材料高速分散機的分散效果 影響分散乳化結果的因素有以下幾點

1 分散頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好）

2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60

高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是z重要的。根據一些行業特殊要求，思峻公司在GRS2000系列的基礎上又開發出CRX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉子的速度可以達到66m/s。

?

參數  

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和z終產品的要求。

納米硅碳復合材料分散機，多孔納米硅碳復合材料分散機，硅碳復合材料分散機

• GRS2000小型納米白炭黑管線式分散機
• GMD2000蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機
• GMD2000磷酸氫鈣混懸劑分散機
• GMD2000石墨烯富鋅底漆涂料分散機
• GMD2000納米金屬氧化物研磨分散機
• GRS2000納米白炭黑管線式分散機
• GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機
• GRS2000化學肥料高剪切乳化研磨分散機
• GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機
• GRS2000磷酸氫鈣高剪切分散機